李军

发布时间:2019-11-19浏览次数:9940作者:来源:机电学院供图:审核:

姓名:李军

性别:男

职务:机械制造及其自动化系实验室主任

职称:教授

博导/硕导:博导

办公室:15-337

研究领域:精密超精密加工、先进光学制造、固结磨料研抛

电话:

Emailjunli@nuaa.edu.cn

个人简介:

李军,博士,南京航空航天大学机电学院教授,博士生导师;是美国Clarkson University和日本茨城大学访问学者,是国际纳米制造协会(ISNM)的Active Member,精密工程与微纳技术专业委员会委员、中国机械工程学会高级会员、中国航空学会会员、中国宇航学会会员。从事精密超精密加工、先进光学制造、固结磨料研抛等领域研究。主持国家自然基金、航空基金、江苏省自然基金、江苏省产学研联合创新资金等国家及省部级项目10余项,参与了国家“973”、国家“863”和国家基金等国家及省部级项目20余项。在国内外期刊发表学术论文80余篇,其中SCIEI收录30余篇;申请中国发明专利55项,其中授权25项。获江苏省“六大人才高峰”高层次人才。


发表论文:

[1] Design of surface grooves on a polishing pad based on slurry uniform flow. Int J Adv Manuf Technol, 2019, 103(9): 4795-4803.

[2] Effect of FAP characteristics on fixed abrasive polishing of CaF2 crystal. Int J Nanomanufacturing, 2019, 15(3): 259-268.

[3] Optimization of process parameters with Taguchi method for nano machining CaF2 crystal, Integr Ferroelectr, 2018, 189(1): 126-134.

[4] Effect of process parameters on fixed abrasive pad self-conditioning in micro/nano machining, Integr Ferroelectr, 2017, 182(1): 53-64.

[5] Effect of chemical additive on fixed abrasive pad self-conditioning in CMP, Int J Adv Manuf Technol, 2017, 88(1): 107-113.

[6] Effect of alkaline slurries on nano machining CaF2 crystal, Integr Ferroelectr, 2016, 171(1): 169-177.

[7] Influence of acid slurries on surface quality of LBO crystal in fixed abrasive CMP. Int J Adv Manuf Technol, 2015, 78(1): 493-501.

[8] 侧面逐层抛光腐蚀法研究亚表面损伤.表面技术, 2019,48(8):309-315.

[9] 固结磨料研磨K9玻璃表面粗糙度模型.机械工程学报,2015,51(21):199-205.

[10]三乙醇胺浓度对固结磨料研磨垫自锐性能的影响.光学精密工程, 2014, 22(12): 3287-3293.

[11]Molecular dynamics simulation of SiC removal mechanism in a fixed abrasive polishing process. Ceramics International, 2019, 45(12): 14614-14624.

[12]球形固结磨料磨头研磨TC4钛合金的工艺探索. 金刚石与磨料磨具工程, 2019, 39(6): 23-28.

[13]抛光垫磨损非均匀性研究,光学技术, 2017, 43(3):222-227.

[14]固结磨料抛光LBO晶体非水基抛光液优化,功能材料,2016,47(2):2051-2054.

[15]抛光液酸碱性对固结磨料抛光硫化锌晶体的影响,人工晶体学报, 2016, 45(2):304-308.


授权发明专利:

[1] 一种超薄零件研磨抛光夹具。中国发明专利,授权号:ZL201810100555.1

[2] 一种快速排屑的抛光垫。中国发明专利,授权号:ZL201711240524.8.

[3] 一种研磨抛光加工状态在线监测装置。中国发明专利,授权号:ZL201710141347.1.

[4] 抛光液均匀流动的抛光垫。中国发明专利,授权号:ZL201610257309.8.

[5] 固结磨料化学机械抛光铜的加工方法。中国发明专利,授权号:ZL201410556103.6.

[6] 一种固结磨料化学机械抛光钽的加工方法。中国发明专利,授权号:ZL201410556164.2.

[7] 基于固结磨料抛光垫的蓝宝石衬底的超精密加工方法。中国发明专利,授权号:ZL201310204706.5.

[8] 软脆易潮解晶体化学机械抛光用无水无磨料抛光液。中国发明专利,授权号:ZL 201210103495.1.

[9] 基于固结磨料的超薄平面玻璃的加工方法。中国发明专利,授权号:ZL 201110043022.2.

[10]基于固结磨料抛光垫的软脆LBO晶体的加工方法。中国发明专利,授权号:ZL201110043009.7.

[11]脆性材料化学机械抛光用无磨料抛光液。中国发明专利,授权号:ZL 201010231307.4.


承担项目:

[1] 国家自然科学基金:固结磨料研磨抛光垫的图案优化与性能评价。主持

[2] 中国博士后科学基金特别资助:软脆材料微接触抛光机理研究。主持

[3] 航空科学基金:软脆红外光学材料微接触抛光机理研究。主持

[4] 江苏省自然科学基金:软脆氟化钙晶体振动辅助固结磨料抛光基础研究。主持

[5] 江苏省产学研联合创新资金项目:金刚石有序排布系统的研制及产业化。主持


指导研究生情况:

指导硕士研究生22名,已毕业17名。

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